Farklı dezenfektan solüsyonlarının akrilik kaide maddesinin yüzey pürüzlülüğüne etkisi
Tezin Türü: Diş Hekimliğinde Uzmanlık
Tezin Yürütüldüğü Kurum: Ankara Üniversitesi, Diş Hekimliği Fakültesi, Klinik Bilimler Bölümü, Türkiye
Tezin Onay Tarihi: 2020
Tezin Dili: Türkçe
Öğrenci: SEBİLE ALTINTAŞ
Danışman: AYŞE CAVİDAN AKÖREN
Açık Arşiv Koleksiyonu: AVESİS Açık Erişim Koleksiyonu
Özet:Farklı dezenfektan solüsyonlarının akrilik kaide maddesinin yüzey pürüzlülüğüne etkisi Isıyla polimerize olan akrilik rezin kullanılarak protez üretimi, dental laboratuvarlardaki en yaygın tedavi prosedürlerinden biridir. Protezlerin üretiminden sonra kliniklere tesliminde ya da tamir ve besleme gibi dental laboratuvarlara gönderildiği durumlarda, çapraz enfeksiyon riskini engellemek açısından dezenfeksiyonu önem kazanmaktadır. Protezlerin kimyasal maddeler içeren dezenfektan solüsyonlar içinde bekletilmesi hem dental laboratuvarlar da hem de hastaların günlük protez temizliğinde kullandığı en yaygın yöntemlerden biridir. Bu solüsyonların; renklenme, mikroorganizma tutulumu ve dokularda mikro travmaya sebep olmaması açısından akrilik kaide materyalinin yüzey pürüzlülüğünü arttırmaması istenmektedir. Bu çalışmada ısı ile polimerize olan akrilik rezin materyalinden hazırlanan 100 örnek rastgele 5 gruba ayrılmış distile su ve dört farklı dezenfektan solüsyonunda bekletilmiştir. Perasetik asitte 5 dk, sodyum hipoklorit, klorheksidin ve Zeta 7 solüsyonunda 10 dk olacak şekilde her gün bekletilerek, 7., 14. ve 21. günlerdeki yüzey pürüzlülükleri ölçülmüştür. Elde edilen veriler istatistiksel olarak ANOVA ve Bonferroni Çoklu Karşılaştırma Testi ile değerlendirilmiştir. İstatistiksel değerlendirmeler sonucunda dezenfektan solüsyonları arasında fark bulunmamıştır. Klorheksidinde bekletilen örneklerin yüzey prüzlülüğünde 21 gün sonunda istatistiksel olarak anlamlı bir değişiklik meydana gelmezken, sodyum hipoklorit, perasetik asit ve Zeta 7 solüsyonunda bekletilen örneklerin yüzey pürüzlülüklerindeki artış istatistiksel olarak anlamlı bulunmuştur.